
在半導體晶圓制造過程中,光刻膠是決定光刻分辨率的關鍵材料之一。隨著制程節點向納米級推進,光刻膠中即使混入極少量的微小顆粒,也可能導致圖形缺陷、線寬異常甚至整片晶圓報廢。普洛帝作為油液顆粒檢測領域技術創新者,推出的PMT-2光刻膠專用顆粒計數器,針對半導體級液體材料的微納米檢測需求設計,服務于晶圓制造與光刻膠供應鏈的質量管控環節。
光刻膠檢測難點
光刻膠屬于高粘度、高敏感度的光化學材料,其顆粒檢測與普通工業油液存在明顯差異。首先,光刻膠中的顆粒尺寸多集中在亞微米到納米區間,常規光阻法儀器的測量下限難以覆蓋;其次,光刻膠本身帶有顏色和黏性,光線穿過時會產生散射與吸收,影響計數結果;再者,光刻膠單價較高、取樣量受限,檢測系統需要在低取樣體積下仍保持統計穩定性。此外,晶圓廠對化學品來料的管控遵循SEMI相關規范,檢測數據需要可追溯、可比對,這對儀器的通道設置和報告輸出提出了較高要求。
產品參數表
PMT-2光刻膠顆粒計數器主要技術參數如下:
項目 | 參數 |
檢測方式 | 光阻法(第八代雙激光光路) |
可測粒徑 | 0.1μm~15μm(光刻膠專用通道) |
取樣體積 | 0.1mL~10mL可調 |
檢測濃度 | 最高可達10000顆/mL |
適用標準 | ISO4406、NAS1638、GJB420B;SEMI框架下可按方法要求設置檢測通道 |
數據輸出 | 顆粒濃度、粒徑分布、清潔度等級報告 |
通訊接口 | RS232 / USB / 以太網 |
技術原理
PMT-2采用普洛帝第八代雙激光光路結構。兩路獨立激光從不同角度照射流經傳感器窗口的液體樣本,顆粒經過時產生遮光信號,系統根據遮光量換算顆粒等效粒徑。雙光路設計可以在一定程度上修正高粘度液體中顆粒沉降帶來的計數偏差,同時對有色液體的透光率變化進行補償。與上一代單激光方案相比,雙光路在低濃度區間的重復性有所改善,適合光刻膠這類高價值、低顆粒濃度樣本的抽檢場景。
應用場景
PMT-2適用于光刻膠生產企業的出廠質控、晶圓廠化學品供應間的來料檢驗,以及CMP漿料、顯影液、剝離液等半導體濕化學品的顆粒度檢測。在光刻膠供應鏈中,該儀器可用于批次之間的穩定性比對,幫助工藝人員識別顆粒異常波動;在晶圓廠端,可納入化學品物料管理流程,為光刻工藝的良率分析提供數據支撐。對于制藥行業的注射劑不溶性微粒檢測,設備也可按藥典方法通道進行配置。
作為油液顆粒檢測領域技術創新者,普洛帝圍繞半導體、風電、液壓、電力、制藥等行業的顆粒檢測需求持續豐富產品線。PMT-2是其面向半導體濕化學品檢測方向的專用設備,檢測結果可按ISO4406、NAS1638等常用標準輸出報告,供客戶用于內部質量管控與供應鏈比對。

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